分析范圍0~50微米
分析誤差5%
分析時間30秒
重復性0.1%
電源電壓220V
EDXThick800是一款全新上照式多功能自動微區X熒光膜厚測試儀,既滿足原有微小和復雜形態樣品的膜厚檢測功能,又可滿足有害元素檢測及輕元素成分分析;搭載自動化的X/Y/Z軸的三維系統、雙激光定位和保護系統,可多點位編程測試,被廣泛應用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量。
X熒光測厚儀采用X熒光分析技術,可以測定各種金屬鍍層的厚度,包括單層、雙層、多層及合金鍍層等,它也可以進行電鍍液的成分濃度測定。它能檢測出常見金屬鍍層厚度,無需樣品預處理;分析時間短,僅為數十秒;即可分析出各金屬鍍層的厚度,分析測量動態范圍寬,可從0.01M到60M。它是一種能譜分析方法,屬于物理分析方法。當鍍層樣品在受到X射線照射時,其中所含鍍層或基底材料元素的原子受到激發后會發射出各自的特征X射線,探測器探測到這些特征X射線后,將其光轉變為模擬;經過模擬數字變換器將模擬轉換為數字并送入計算機進行處理;計算機的應用軟件根據獲取的譜峰信息,通過數據處理測定出被測鍍層樣品中所含元素的種類及各元素的鍍層厚度。
我公司集中了國內的X熒光分析﹑電子技術等行業技術研究開發及生產技術人員,依靠多年的科學研究,總結多年的現場應用實踐經驗,結合的特色,開發生產出的X熒光測厚儀具有快速、準確、簡便、實用等優點。
我公司新研制的X熒光測厚儀,廣泛用于用于鍍層厚度的測量、電鍍液厚度的測量。
1. 儀器特點:
Ø 同時分析元素周期表中由鈦(Ti)以上元素的鍍層厚度;
Ø 可以分析單層、雙層、三層等金屬及合金鍍層的厚度;
Ø 無需復雜的樣品預處理過程;分析測量動態范圍寬,可從0.01M到60M ;
Ø 采用的探測器技術及的處理線路,處理速度快,精度高,穩定可靠;
Ø 采用正高壓激發的微聚焦的X光管,激發與測試條件采用計算機軟件數碼控制與顯示;
Ø 采用彩色攝像頭,準確觀察樣品并可拍照保存樣品圖像;
Ø 采用電動控制樣品平臺,可以進行X-Y-Z的,準確方便;
Ø 采用雙激光對焦系統,準確定位測量位置;
Ø 度高,穩定性好,故障率低;
Ø 采用多層屏蔽保護,安全性可靠;
Ø WINDOWS XP 中文應用軟件,特的分析方法,完備強大的功能,操作簡單,使用方便, 分析結果存入標準ACCESS數據庫;
2、儀器的技術特性
2.1 X-Y-Z樣品平臺裝置
X熒光測厚儀的X-Y-Z樣品平臺裝置具有可容納各種形態被測樣品的樣品室。
樣品種類:各種形狀的鍍層樣品,及電鍍液體樣品。
平臺:X-Y-Z采用電動方式,實用方便。

X熒光鍍層測厚儀配置
01 立的X/Y/Z軸控制系統
02 微焦斑X光管
03 可變高壓電源
04 防撞板外加防撞激光保護檢測器對儀器進行雙重安全保護
05 Fast-SDD探測器
06 雙激光定位裝置
07 標配可自動切換的準直孔和濾光片

天瑞儀器在X射線熒光光譜儀行業屢創輝煌,譬如,生產的食品重金屬快速檢測儀EDX 3200S PLUS X,采用了能量色散X射線熒光光譜技術實現食品中微量重金屬有害元素的快速檢測,操作簡單,自動化程度高,可同時檢測24個樣本;在多年同時式波長色散X射線熒光光譜儀的研發和產品化基礎上,在國家重大科學儀器設備開發專項資金支持下,融合的科技創新和發明,推出了國內臺商業化順序式波長色散X射線熒光光譜儀——WDX 4000,為土壤重金屬檢測提供新支持;成功研發EXPLORER手持式能量色散X射線熒光光譜儀,促進了儀器的小型化與便攜化等。
今后,天瑞儀器將繼續以“行業”為目標,不斷提升技術水平,使國產儀器媲美國外,走向國際。同時,天瑞儀器著眼于日益嚴峻的環保形勢,積極調整產品結構,致力于環保解決方案的提供,守護碧水藍天。與時俱進開拓創新,用科學技術服務于國家,服務于,是每

性能優勢
1、結合鍍層行業微小樣品的檢測需求,專門研發適用于鍍層檢測的超近光路系統,減少能量過程損耗。搭載的多導毛細管聚焦管,大的提升了儀器的檢測性能,聚焦強度提升1000~10000倍,更高的檢測靈敏度和分析精度以及高計數率保證測試結果的性和穩定性。
2、全景+微區雙相機設計,呈現全高清廣角視野,讓樣品觀察更全面;微米級別分辨率,的滿足超微產品的測試,讓測試更廣泛更便捷。
3、的多導毛細管技術,信號強度比金屬準直系統高出幾個數量級。
4、多規格可選的多導毛細管,的滿足用戶不同測試需求。
5、高精度XYZ軸移動測試平臺,結合雙激光點位定位系統,可實現在樣品測試過程中的全自動化感受一鍵點擊,測試更省心。
天瑞儀器股份有限公司集30多年X熒光膜厚測量技術,研發的一款全新上照式X射線熒光分析儀,該款儀器配置嵌入集成式多準直孔、濾光片自動切換裝置和雙攝像頭,不僅能展現測試部位的細節,也能呈現出高清廣角視野;自動化的X/Y/Z軸的三維移動,實現對平面、凹凸、拐角、弧面等形態的樣品進行快速對焦分析。能地滿足半導體、芯片及PCB等行業的非接觸微區鍍層厚度測試需求。
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