分析范圍0~50微米
分析誤差5%
分析時間30秒
重復性0.1%
電源電壓220V
X熒光鍍層測厚儀硬件配置
高功率高壓單元搭配微焦斑的X光管,大的保證了信號輸出的效率與穩定性。
EDX能的將不同的元素準確解析,針對多鍍層與復雜合金鍍層的測量,有著不可比擬的優勢。
在準直器的選擇上,EDX金屬鍍層測厚儀也有著很大的優勢,它可以搭配的準直器更小:0.1*0.3mm,中0.15mm;中0.2mm;中0.3mm;中0.5mm等等。用超小的準直器得到的超小光斑,讓更小樣品的測量也變得游刃有余。
2016年10月,工業和信息化部發布了三項機械行業標準,分別為JB/T 12962.1-2016《能量色散X射線熒光光譜儀 第1部分:通用技術》、JB/T 12962.2-2016《能量色散X射線熒光光譜儀 第2部分:元素分析儀》和JB/T 12962.3-2016《能量色散X射線熒光光譜儀 第3部分:鍍層厚度分析儀》(以下簡稱“三項標準”)。三項標準將于2017年4月1日正式實施。這三項行業標準均由天瑞儀器起草撰寫。
天瑞儀器作為在國內的X熒光光譜儀生產廠商,X熒光光譜儀產品齊全、種類繁多,包括能量色散X射線熒光光譜儀、波長色散X射線熒光光譜儀等,基本覆蓋了X熒光光譜儀的所有產品。其在業內的度獲得了國家標準化管理會的認可。2010年,全國工業過程測量和控制標準化技術會分析儀器分技術會任命天瑞儀器為三項標準的主編單位。本次起草編撰歷時4年。經過多次的驗證、討論及意見征求, 2014年1月,天瑞儀器依據參編單位意見對標準工作組討論稿再次進行修改并形成了標準送審稿。2016年10月,工業和信息化部批準發布了該標準,并定于2017年4月1日實施。
二十世紀七十年代末,我國引進能量色散X射線熒光光譜儀投入使用,到90年代我國已具備自主生產能量色散X射線熒光光譜儀的能力。經歷了近30年的發展,到二十一世紀初我國能量色散X射線熒光光譜儀生產技術已日臻成熟。目前,我國已有多家研制、生產、組裝能量色散X射線熒光光譜儀的廠商,其產品主要性能指標基本接近國際水平。但是如何對能量色散X射線熒光光譜儀進行有效的質量評定,確保能量色散X射線熒光光譜儀的品質,目前國內還沒有統一的行業標準,相關企業基本按照自定的標準生產,難免造成儀器性能不穩定、產品質量參差不齊、使用者對儀器性能不了解、儀器購銷貿易糾紛不斷等問題,嚴重影響了行業的健康發展。
三項標準的實施將打破能量色散X射線熒光光譜儀行業的亂象,將規范本行業對于產品的技術要求及其測試方法,促進產業的進步和發展;將為產品的合同訂立和產品交易提供技術支持,確保供貨方和使用方的和利益;將使相關學術交流中,實驗數據和測量結果的表述更加準確、可靠,更具參考性;將為儀器的生產及制造過程中提供可做為驗收依據的參考數據。

2019年10月23日,第北京分析測試學術報告會暨展覽會(BCEIA2019)在北京國家會議中心隆重舉辦。作為國際分析測試行業的盛會,今年的BCEIA是一番高朋滿座的熱鬧景象。來自世界各地的500家儀器企業參展,天瑞儀器如期赴約,精彩亮相。
本次展會,天瑞儀器可謂是產品豐富、陣容強大。攜旗下子公司上海磐合科學儀器股份有限公司(以下簡稱:磐合科儀)、及天瑞儀器福建分公司帶領眾多產品亮相本次大會。豐富的產品,前瞻的技術吸引了大批觀眾前來咨詢,與天瑞技術人員探討產品細節,交流應用經驗。展會期間,天瑞儀器還設立了掃碼贏環節,微信公眾號“幸運”簡單,互動性強,吸引了眾多觀眾掃碼挑戰。 為期四天的盛會已落下帷幕,天瑞儀器希望通過本次展會,向更多用戶展示天瑞在科學領域的創新成果。天瑞儀器將不忘初心,砥礪前行,繼續譜寫分析檢測領域的新傳奇,力爭做世界的分析檢測解決方案提供者,打造儀器精品,為客戶創造更多價值。

分析元素范圍:從硫(S)到鈾(U)
同時檢測元素:多24個元素,多達五層鍍層
檢出限:可達2ppm,薄可測試0.005μm
分析含量:一般為2ppm到99.9%
鍍層厚度:一般在50μm以內(每種材料有所不同)重復性:可達0.1%
穩定性:可達0.1%
SDD探測器:分辨率低至135eV
采用的微孔準直技術,小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm
樣品觀察:配備全景和局部兩個工業高清攝像頭
準直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與
Ф0.3mm四種準直器組合
儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm
樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm
樣品臺尺寸:393(W)x 258 (D)mm

設計亮點
上照式設計,可適應更多異型微小樣品的測試。相較傳統光路,信號采集效率提升以上。可變焦高精攝像頭,搭配距離補正系統,滿足微小產品,臺階,深槽,沉孔樣品的測試需求。可編程自動位移平臺,微小密集型可多點測試,大大提高測樣效率。自帶數據校對系統。
天瑞儀器股份有限公司集30多年X熒光膜厚測量技術,研發的一款全新上照式X射線熒光分析儀,該款儀器配置嵌入集成式多準直孔、濾光片自動切換裝置和雙攝像頭,不僅能展現測試部位的細節,也能呈現出高清廣角視野;自動化的X/Y/Z軸的三維移動,實現對平面、凹凸、拐角、弧面等形態的樣品進行快速對焦分析。能地滿足半導體、芯片及PCB等行業的非接觸微區鍍層厚度測試需求。
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